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石英在研磨抛光除油除粉清洗剂

石英在研磨抛光除油除粉清洗剂

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石英的加工

 

石英在半导体基板光掩模中的应用随着半导体工艺技术的发展,需求量也越来越大,石英的加工工艺也逐渐成熟稳定。石英的冷加工工艺普遍跟其他玻璃等光学工件的加工工艺并没有太大的差异,只是由于材料间的特性不同,会选择一些差异化的辅料来进行生产加工。

在进行开料等工艺后,最主要的三个工艺段就是切、磨、洗。首先在切削过程中,不同的速度与温度以及辅料的差异都会对工件产生影响,这个工艺一般都是比较需要经验积累验证的工艺段。例如选用不同的切削油或者切削液,由于辅料的散热与润滑性能的差异,刀头在切削时的速度就需要有所变化,不然会有烧边等情况发生。

石英在研磨抛光工艺上也大多是选用氧化铈作为抛光材料进行抛光处理。然而很多生产厂家为了为了节约时间与物料成本,会将清洗放在切削研磨后进行一次性清洗,这就造成了工件表面脏污的复杂多样性。

复合脏污的清洗

在清洗这种复合型脏污的时候,需要注意三个方面问题:油污与抛光粉混合会加大抛光粉的清洗难度,清洗剂对于石英基材的影响,清洗剂本身对于混合脏污的耐受性。

 

客户案例

近期就有客户在咨询石英清洗时提到他们也是在使用切削油对石英工件进行切割后用氧化铈对石英进行抛光处理,之后分别使用两个药水槽进行清洗,第一个药水槽主要清洗油污,第二个药水槽针对抛光粉清洗。但是清洗后的工件良率不高,脏污残留明显,既有油污又有抛光粉。

解决方案

我司对于这种清洗工艺早已有对应的产品可以解决,工程师也提出,抛光粉原本就粘性较大,再有油污的情况就更是加大了清洗的难度,在清洗剂的选择上不能够理想化地只想先清洗油污或者抛光粉,这些脏污已经混杂在一起的情况下需要同时进行清洗才能彻底清除干净,并且专一性能的清洗剂在清洗复合脏污的情况还需要考虑清洗剂的耐受力问题。

工程师建议使用我司研磨抛光一体清洗剂,分两个超声波药水槽进行清洗。第一个药水槽对工件进行预粗洗一遍之后再经过第二个药水槽精细清洗,最后再漂洗烘干,这样可以保证工件的清洗的洁净程度与良率。

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