硅溶胶是纳米级的二氧化硅粒子在水中未定存在的胶体溶液，硅溶胶抛光是利用硅熔体液体通过高速抛光达到提高表面平整度的效果。硅溶胶因其胶体粒子直径为纳米级，具有较大的比表面积，高度的分散性和渗透性，因其粒子表面常吸附OH-而带负电，具有很好的亲水性和憎油性，因此广泛应用于硅片、二氧化硅、蓝宝石等精密光学器件表面的抛光处理。
近期，有客户咨询我司硅片清洗硅溶胶上的问题。该客户就是使用硅溶胶对硅片进行抛光，可以说硅片硅溶胶抛光工艺上，成也硅溶胶败也硅溶胶。由于硅溶胶的特殊性能，抛光后的工件表面性能能达到客户的高标准要求，但是硅溶胶的残留清洗成了客户的生产瓶颈。
由于60℃以下硅溶胶粒子内部往往含有未完全缩合的羟基，因此粘度较大；而且硅溶胶粒子表面吸附OH-而带负电，是胶体容易吸附到硅片表面，同时硅溶胶胶体粒子为纳米级，有较大的表面积，当硅溶胶水分蒸发时，胶体粒子间形成硅氢键结合，使胶体粒子牢固地附着在物体表面。这些导致了硅溶胶抛光后，水分蒸发后，极容易在硅片表面形成顽固性的脏污。清洗该顽固性脏污需要选择清洗能力强的清洗剂，但是由于该客户的硅片不耐碱，选择不伤硅片又能把硅溶胶清洗干净的界点，是对清洗剂更是一种新的挑战。
对于硅片抛光后的清洗，飞耐尔工程师根据硅溶胶本身的特性以及多年的现场实践经验选择合适的螯合剂复配体系和高效的表面活性剂复配体系，利用离子表面活性剂，与硅溶胶表面电荷进行反应使之剥离硅片表面，从而达到有效除去了硅片表面的硅溶胶残留、颗粒、杂质等效果。飞耐尔硅溶胶清洗剂AK175是一款水性产品，不含重金属等受控物质；溶解完全，无残留，极易漂洗，对硅片表面无不良影响。
硅溶胶清洗剂使用方法：
浓度：10-20%浓度 （对于难清洗材质可适当提高浓度）
温度：50-60℃
时间：1-5 分钟（视材质而定）
工艺：超声波洗涤（超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度对液体和污物直接和间接的作用，使脏污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的）
飞耐尔专注于为玻璃清洗提供一站式服务，我们有多年的现场清洗经验以及专业的团队，每个项目根据设备、环境等具体情况提供专业可行的整体解决方案。
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